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文献
J-GLOBAL ID：201902265697096641
整理番号：19A1951830
硫化プロセスにより調製した(Cu,Ag)_2SnS_3薄膜へのKF添加の効果【JST・京大機械翻訳】
Effect of KF Addition to (Cu,Ag)2SnS3 Thin Films Prepared by Sulfurization Process
Nakashima Mitsuki
(National Institute of Technology, Wakayama College, Gobo-shi, Wakayama, 644-0023, Japan)
,
Hirano Shun
(National Institute of Technology, Wakayama College, Gobo-shi, Wakayama, 644-0023, Japan)
,
Yamaguchi Toshiyuki
(National Institute of Technology, Wakayama College, Gobo-shi, Wakayama, 644-0023, Japan)
,
Araki Hideaki
(National Institute of Technology, Nagaoka College, Nagaoka-shi, Niigata, 940-8532, Japan)
,
Katagiri Hironori
(National Institute of Technology, Nagaoka College, Nagaoka-shi, Niigata, 940-8532, Japan)
,
Akaki Yoji
(National Institute of Technology, Miyakonojo College, Miyakonojo-shi, Miyazaki, 940-8532, Japan)
,
Sasano Junji
(Toyohashi University of Technology, Toyohashi-shi, Aichi, 441-8580, Japan)
,
Izaki Masanobu
(Toyohashi University of Technology, Toyohashi-shi, Aichi, 441-8580, Japan)
資料名：
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science
(Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 216 号： 15 ページ： e1800870 発行年： 2019年
JST資料番号： D0774A ISSN： 1862-6300 CODEN： PSSABA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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