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文献
J-GLOBAL ID：201902265988314185
整理番号：19A2111609
タンタル熱線触媒により生成した水素ラジカルを用いたフォトレジスト除去【JST・京大機械翻訳】
Photoresist removal using hydrogen radicals produced by tantalum hot-wire catalyst
Yamamoto Masashi
(Department of Electrical and Computer Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College, 355 Chokushi-cho, Takamatsu, Kagawa 761-8058, Japan)
,
Shiroi Tomohiro
(Department of Electrical and Computer Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College, 355 Chokushi-cho, Takamatsu, Kagawa 761-8058, Japan)
,
Shikama Tomokazu
(Department of Electrical and Computer Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College, 355 Chokushi-cho, Takamatsu, Kagawa 761-8058, Japan)
,
Nagaoka Shiro
(Department of Electronic Systems Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College, 551 Kohda, Takuma-cho, Mitoyo, Kagawa 769-1192, Japan)
,
Horibe Hideo
(Graduate School of Engineering, Osaka City University, 3-3-138, Sugimoto, Sumiyoshi, Osaka 558-8585, Japan)
資料名：
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻： 2151 号： 1 ページ： 020010-020010-6 発行年： 2019年
JST資料番号： D0071C ISSN： 0094-243X 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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