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文献
J-GLOBAL ID：201902266349453126
整理番号：19A2073009
弾性表面波によるSiO2薄膜のヤング率の決定に及ぼす残留応力の影響
Influence of residual stress on the determination of Young’s modulus for SiO2 thin film by the surface acoustic waves
QIN Huiquan
(Tianjin Univ., Tianjin, CHN)
,
XIAO Xia
(Tianjin Univ., Tianjin, CHN)
,
SUI Xiaole
(Tianjin Univ., Tianjin, CHN)
,
QI Haiyang
(Tianjin Univ., Tianjin, CHN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58 号： SH ページ： SHHG01.1-SHHG01.6 発行年： 2019年07月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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