文献
J-GLOBAL ID:201902269955018483
整理番号:19A1811723
低温平行平板誘電体バリア放電システムにおけるエチレンエポキシ化:酸素源の影響【JST・京大機械翻訳】
Ethylene Epoxidation in a Low-Temperature Parallel Plate Dielectric Barrier Discharge System: Effect of Oxygen Source
著者 (3件):
Suttikul Thitiporn
(Division of Chemical Process Engineering Technology, Faculty of Engineering and Technology, King Mongkut’s University of Technology North Bangkok, Thailand)
,
Chavadej Sumaeth
(The Petroleum and Petrochemical College, Chulalongkorn University, Thailand)
,
Chavadej Sumaeth
(Center of Excellence on Petrochemical and Materials Technology, Chulalongkorn University, Thailand)
資料名:
Industrial & Engineering Chemistry Research
(Industrial & Engineering Chemistry Research)
巻:
56
号:
44
ページ:
12547-12555
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0385C
ISSN:
0888-5885
CODEN:
IECRED
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)