文献
J-GLOBAL ID:201902269960817654
整理番号:19A1415756
6nm波長用の高反射率La/Bベース多層膜の熱安定性【JST・京大機械翻訳】
Thermal stability of high-reflectance La/B-based multilayers for 6.x nm wavelength
著者 (4件):
Kuznetsov D. S.
(Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Yakshin A. E.
(Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Sturm J. M.
(Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Bijkerk F.
(Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
122
号:
12
ページ:
125302-125302-7
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)