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文献
J-GLOBAL ID：201902270975294340
整理番号：19A0036939
EUVと自己整合ゲート接触により可能になった連続拡散によるチップ可変性緩和【JST・京大機械翻訳】
Chip Variability Mitigation through Continuous Diffusion Enabled by EUV and Self-Aligned Gate Contact
Badel Stephane
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Xu Miao
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Ma Xiaolong
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Yang Wen
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Zheng Wei
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Zhang Xiangqiang
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Lin Meng
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Yu Yong
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Wei Wei
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Zeng Qiuling
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Chen Zanfeng
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Zou Xiaowei
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Wong Waisum
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Liu Yanxiang
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Paak Sunhom Steve
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
,
Xia Yu
(HiSilicon Technologies Co., Ltd, Shenzhen, 518129, China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018 号： ICSICT ページ： 1-3 発行年： 2018年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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