文献
J-GLOBAL ID:201902273626007423
整理番号:19A0658668
連続および高伝導性金薄膜の熱原子層堆積【JST・京大機械翻訳】
Thermal Atomic Layer Deposition of Continuous and Highly Conducting Gold Thin Films
著者 (6件):
Maekelae Maarit
(Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland)
,
Hatanpaeae Timo
(Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland)
,
Mizohata Kenichiro
(Division on Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, Finland)
,
Raeisaenen Jyrki
(Division on Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, Finland)
,
Ritala Mikko
(Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland)
,
Leskelae Markku
(Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
29
号:
14
ページ:
6130-6136
発行年:
2017年
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)