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文献
J-GLOBAL ID:201902274149667971   整理番号:19A0098696

Au(111)電極表面上のCu-UPdプロセスに及ぼす物理吸着ジオクタデシルスルフィドの速度論の影響に関するサイクリックボルタンメトリーおよびその場赤外反射吸収分光法による研究

Cyclic Voltammetry and in situ Infrared Reflection Absorption Spectroscopy on Kinetic Effect of Physisorbed Dioctadecylsulfide on a Cu-UPD Process on Au(111) Electrode Surface
著者 (4件):
Endo Osamu
(Department of Organic and Polymer Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology)
Ozaki Hiroyuki
(Department of Organic and Polymer Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology)
Nakamura Masashi
(Department of Applied Chemistry and Biotechnology, Faculty of Engineering, Chiba University)
Amemiya Kenta
(Photon Factory, High Energy Accelerator Research Organization (KEK-PF), Institute of Materials Structure Science (IMSS))

資料名:
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))

巻: 16  ページ: 60-65(J-STAGE)  発行年: 2018年 
JST資料番号: U0016A  ISSN: 1348-0391  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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