文献
J-GLOBAL ID:201902274882065260
整理番号:19A0177430
二次元トポロジカル絶縁体:進歩と展望【JST・京大機械翻訳】
Two-Dimensional Topological Insulators: Progress and Prospects
著者 (5件):
Kou Liangzhi
(School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering Faculty, Queensland University of Technology, QLD, Australia)
,
Ma Yandong
(Wilhelm-Ostwald-Institut fuer Physikalische und Theoretische Chemie, Universitaet Leipzig, Germany)
,
Sun Ziqi
(School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering Faculty, Queensland University of Technology, QLD, Australia)
,
Heine Thomas
(Wilhelm-Ostwald-Institut fuer Physikalische und Theoretische Chemie, Universitaet Leipzig, Germany)
,
Chen Changfeng
(Department of Physics and Astronomy, High Pressure Science and Engineering Center, University of Nevada, Nevada, United States)
資料名:
Journal of Physical Chemistry Letters
(Journal of Physical Chemistry Letters)
巻:
8
号:
8
ページ:
1905-1919
発行年:
2017年
JST資料番号:
W3687A
ISSN:
1948-7185
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)