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J-GLOBAL ID:201902275400136138   整理番号:19A0511473

大規模集積ディジタル回路のためのNb/Al-AlOx/Nbトンネル接合の開発【JST・京大機械翻訳】

Development of Nb/Al-AlOx/Nb Tunnel Junction for Large-Scale Integrated Digital Circuits
著者 (6件):
Xiong Wei
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology and the Center for Excellence in Superconducting Electronics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China)
Ying Liliang
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology and the Center for Excellence in Superconducting Electronics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China)
Wu Yu
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology and the Center for Excellence in Superconducting Electronics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China)
Ren Jie
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology and the Center for Excellence in Superconducting Electronics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China)
Peng Wei
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology and the Center for Excellence in Superconducting Electronics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China)
Wang Zhen
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology and the Center for Excellence in Superconducting Electronics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China)

資料名:
IEEE Transactions on Applied Superconductivity  (IEEE Transactions on Applied Superconductivity)

巻: 27  号:ページ: ROMBUNNO.1100304.1-4  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0177A  ISSN: 1051-8223  CODEN: ITASE9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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