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文献
J-GLOBAL ID：201902276231989797
整理番号：19A1887168
MOS_2-溶媒界面の定量的モデリング:分子動力学を用いた接触角と剥離性能の予測【JST・京大機械翻訳】
Quantitative Modeling of MoS2-Solvent Interfaces: Predicting Contact Angles and Exfoliation Performance using Molecular Dynamics
Sresht Vishnu
(Department of Chemical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States)
,
Govind Rajan Ananth
(Department of Chemical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States)
,
Bordes Emilie
(Department of Chemical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States)
,
Bordes Emilie
(Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, Universite Blaise Pascal and CNRS, France)
,
Strano Michael S.
(Department of Chemical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States)
,
Padua Agilio A.H.
(Department of Chemical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States)
,
Padua Agilio A.H.
(Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, Universite Blaise Pascal and CNRS, France)
,
Blankschtein Daniel
(Department of Chemical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States)
資料名：
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121 号： 16 ページ： 9022-9031 発行年： 2017年
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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