文献
J-GLOBAL ID:201902278833256624
整理番号:19A1413789
TFT応用のための非晶質In-Ga-Zn-O薄膜における水素アニオンとサブギャップ状態【JST・京大機械翻訳】
Hydrogen anion and subgap states in amorphous In-Ga-Zn-O thin films for TFT applications
著者 (3件):
Bang Joonho
(Materials Research Center for Element Strategy, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan)
,
Matsuishi Satoru
(Materials Research Center for Element Strategy, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan)
,
Hosono Hideo
(Materials Research Center for Element Strategy, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
110
号:
23
ページ:
232105-232105-5
発行年:
2017年
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)