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文献
J-GLOBAL ID:201902278833256624   整理番号:19A1413789

TFT応用のための非晶質In-Ga-Zn-O薄膜における水素アニオンとサブギャップ状態【JST・京大機械翻訳】

Hydrogen anion and subgap states in amorphous In-Ga-Zn-O thin films for TFT applications
著者 (3件):
Bang Joonho
(Materials Research Center for Element Strategy, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan)
Matsuishi Satoru
(Materials Research Center for Element Strategy, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan)
Hosono Hideo
(Materials Research Center for Element Strategy, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 110  号: 23  ページ: 232105-232105-5  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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