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文献
J-GLOBAL ID：201902279902978712
整理番号：19A2157414
UVレーザ誘起劣化に対する高耐性を有する自己フラックス溶液からの大きくて高品質なCsLiB6O10結晶の成長
Growth of large and high quality CsLiB6O10 crystals from self-flux solutions for high resistance against UV laser-induced degradation
MURAI Ryota
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
FUKUHARA Taishi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ANDO Go
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TANAKA Yasunori
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAKAHASHI Yoshinori
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MATSUMOTO Kazuhisa
(SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN)
,
ADACHI Hiroaki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ADACHI Hiroaki
(SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN)
,
MARUYAMA Mihoko
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
IMANISHI Masayuki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KATO Kosaku
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
NAKAJIMA Makoto
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MORI Yusuke
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MORI Yusuke
(SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN)
,
YOSHIMURA Masashi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
YOSHIMURA Masashi
(SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 12 号： 7 ページ： 075501.1-075501.4 発行年： 2019年07月
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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