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文献
J-GLOBAL ID：201902279943294795
整理番号：19A2306695
窒素ガス添加による高圧水素ベースプラズマの銅ドライエッチング特性の顕著な改善【JST・京大機械翻訳】
Significant Improvement of Copper Dry Etching Property of a High-Pressure Hydrogen-Based Plasma by Nitrogen Gas Addition
Ohmi Hiromasa
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University)
,
Ohmi Hiromasa
(Research Center for Ultra-Precision Science and Technology, Osaka University)
,
Sato Jumpei
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University)
,
Shirasu Yoshiki
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University)
,
Hirano Tatsuya
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University)
,
Kakiuchi Hiroaki
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University)
,
Yasutake Kiyoshi
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University)
,
Yasutake Kiyoshi
(Research Center for Ultra-Precision Science and Technology, Osaka University)
資料名：
ACS Omega
(ACS Omega)
巻： 4 号： 2 ページ： 4360-4366 発行年： 2019年
JST資料番号： W5044A ISSN： 2470-1343 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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