文献
J-GLOBAL ID:201902281460126798
整理番号:19A1415724
低堆積速度RFスパッタリングにより成長させたBiFeO_3薄膜の磁気モーメントの起源における寄生相【JST・京大機械翻訳】
Parasitic phases at the origin of magnetic moment in BiFeO3 thin films grown by low deposition rate RF sputtering
著者 (5件):
Mori Thiago J. A.
(Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil)
,
Mouls Caroline L.
(Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil)
,
Morgado Felipe F.
(Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil)
,
Schio Pedro
(Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil)
,
Cezar Julio C.
(Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
122
号:
12
ページ:
124102-124102-5
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)