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文献
J-GLOBAL ID：201902283365457770
整理番号：19A2733241
オキシふっ化アルミニウム不動態化層の熱コンダクタンス【JST・京大機械翻訳】
Thermal conductance of aluminum oxy-fluoride passivation layers
Tomko John A.
(Department of Materials Science and Engineering, University of Virginia, Charlottesville, Virginia 22903, USA)
,
Boris David R.
(Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington DC 20375, USA)
,
Rosenberg Samantha G.
(ASEE Postdoctoral Research Associate, U.S. Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375, USA)
,
Walton Scott G.
(Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington DC 20375, USA)
,
Hopkins Patrick E.
(Department of Materials Science and Engineering, University of Virginia, Charlottesville, Virginia 22903, USA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 115 号： 19 ページ： 191901-191901-5 発行年： 2019年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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