文献
J-GLOBAL ID:201902286653340383
整理番号:19A2249476
直書き技術に基づくマイクロナノマスク作製技術に関する研究【JST・京大機械翻訳】
Research progress of micro-nano mask fabrication technology based on direct writing technique
著者 (3件):
Zhang Cheng
(浙江工業大学特種装備制造与先進加工技術教育部重点実験室,浙江杭州310014;清華大学精密測試技術及儀器国家重点実験室,北京100084)
,
Wen Donghui
(浙江工業大学特種装備制造与先進加工技術教育部重点実験室,浙江杭州,310014)
,
Yang Xing
(清華大学精密測試技術及儀器国家重点実験室,北京,100084)
資料名:
Chuanganqi yu Wei Xitong
(Chuanganqi yu Wei Xitong)
巻:
38
号:
7
ページ:
1-4,9
発行年:
2019年
JST資料番号:
C3686A
ISSN:
1000-9787
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
中国語 (ZH)