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文献
J-GLOBAL ID：201902286939639743
整理番号：19A1716683
金属有機分解法により作製したa-SiO_2基板上のLaMnO_3薄膜における強い正孔自己ドーピング【JST・京大機械翻訳】
Strong Hole Self-Doping in LaMnO3 Thin Film on a-SiO2 Substrate Produced by Metal Organic Decomposition Method
Kobori Hiromi
(Konan University, Department of Physics, Faculty of Science and Engineering Hyogo Japan)
,
Kitamura Tohru
(Konan University, Department of Physics Kobe Japan 8-9-1 Okamoto, Higashi Nada-ku)
,
Taniguchi Toshifumi
(Osaka University, Department of Physics Toyonaka Japan 1-1, Machikaneyama)
,
Shimizu Tetsuo
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba Japan 1-1-1 Higashi)
資料名：
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻： 962 ページ： 17-21 発行年： 2019年
JST資料番号： D0716B ISSN： 0255-5476 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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