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文献
J-GLOBAL ID：201902287307566310
整理番号：19A2617848
10nm厚のバッファ層を用いた残留Ar原子を含む直流マグネトロンスパッタAlドープZnO多結晶膜の特性の改善【JST・京大機械翻訳】
Improvement of the Properties of Direct-Current Magnetron-Sputtered Al-Doped ZnO Polycrystalline Films Containing Retained Ar Atoms Using 10-nm-Thick Buffer Layers
Nomoto Junichi
(Advanced Coating Technology Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Ibaraki, Japan)
,
Makino Hisao
(Materials Design Center, Research Institute, Kochi University of Technology, Kochi, Japan)
,
Nakajima Tomohiko
(Advanced Coating Technology Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Ibaraki, Japan)
,
Tsuchiya Tetsuo
(Advanced Coating Technology Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Ibaraki, Japan)
,
Yamamoto Tetsuya
(Materials Design Center, Research Institute, Kochi University of Technology, Kochi, Japan)
資料名：
ACS Omega
(ACS Omega)
巻： 4 号： 11 ページ： 14526-14536 発行年： 2019年
JST資料番号： W5044A ISSN： 2470-1343 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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