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J-GLOBAL ID：201902289781603541 整理番号：19A1522631

強いフェムト秒レーザパルスによるシリコン上の表面プラズモンポラリトンの減衰

Reduced damping of surface plasmon polaritons on silicon with intense femtosecond laser pulse

著者 (2件)：

MIYAJI Godai

(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)

HAGIYA Masato

(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)

資料名：

Japanese Journal of Applied Physics (Japanese Journal of Applied Physics)

巻： 58 号： 5 ページ： 050916.1-050916.4 発行年： 2019年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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