文献
J-GLOBAL ID:201902290478828031
整理番号:19A1415432
二重井戸二重障壁GaN/AlGaN/GaN共鳴トンネルダイオードのモデリングと最適化【JST・京大機械翻訳】
Modeling and optimization of a double-well double-barrier GaN/AlGaN/GaN/AlGaN resonant tunneling diode
著者 (4件):
Liu Yang
(Key Laboratory for Microelectronics, College of Physical Science and Technology, Sichuan University, Chengdu, Sichuan 610064, China)
,
Gao Bo
(Key Laboratory for Microelectronics, College of Physical Science and Technology, Sichuan University, Chengdu, Sichuan 610064, China)
,
Gong Min
(Key Laboratory for Microelectronics, College of Physical Science and Technology, Sichuan University, Chengdu, Sichuan 610064, China)
,
Shi Ruiying
(Key Laboratory for Microelectronics, College of Physical Science and Technology, Sichuan University, Chengdu, Sichuan 610064, China)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
121
号:
21
ページ:
215701-215701-6
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)