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文献
J-GLOBAL ID：201902291597193876
整理番号：19A2899682
レジスト自由電子ビームリソグラフィーにより作製したTiO_2導波路における光閉込め【JST・京大機械翻訳】
Optical confinement in TiO2 waveguides fabricated by resist free electron beam lithography
Sangani L.D.Varma
(Centre for Advanced Studies in Electronics Science and Technology, School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, Telangana, India)
,
Sangani L.D.Varma
(Department of Condensed Matter Physics and Materials Science, Tata Institute of Fundamental Research, Mumbai, India)
,
Mohiddon Md. Ahamad
(Department of Physics, SRM University, Delhi-NCR, Sonepat, India)
,
Rajaram Guruswamy
(Centre for Advanced Studies in Electronics Science and Technology, School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, Telangana, India)
,
Krishna M. Ghanashyam
(Centre for Advanced Studies in Electronics Science and Technology, School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, Telangana, India)
資料名：
Optics & Laser Technology
(Optics & Laser Technology)
巻： 123 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： D0245B ISSN： 0030-3992 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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