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文献
J-GLOBAL ID：201902297438026574
整理番号：19A1408431
光学リソグラフィーにより単純に金属-グラフェン界面をエンジニアリングすることによる低接触抵抗の達成【JST・京大機械翻訳】
Achieving Low Contact Resistance by Engineering a Metal-Graphene Interface Simply with Optical Lithography
Kong Qinghua
(School of Science, Beijing Jiaotong University, China)
,
Wang Xuanyun
(Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd., China)
,
Xia Lishuang
(School of Science, Beijing Jiaotong University, China)
,
Wu Chenbo
(School of Science, Beijing Jiaotong University, China)
,
Feng Zhixin
(School of Science, Beijing Jiaotong University, China)
,
Wang Min
(School of Science, Beijing Jiaotong University, China)
,
Zhao Jing
(Center for Gene and Cell Engineering, Institute of Biomedicine and Biotechnology,, Shenzhen Institutes of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences, China)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9 号： 25 ページ： 21573-21578 発行年： 2017年06月28日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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