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文献
J-GLOBAL ID：202002211062350620
整理番号：20A0269645
招待:垂直Ga_2O_3トランジスタのプロセスとキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】
Invited: Process and Characterization of Vertical Ga2O3 Transistors
Higashiwaki Masataka
(National Institute of Information and Communications Technology,Koganei, Tokyo,Japan,184-8795)
,
Wong Man Hoi
(National Institute of Information and Communications Technology,Koganei, Tokyo,Japan,184-8795)
,
Goto Ken
(Tokyo University of Agriculture and Technology,Department of Applied Chemistry,Koganei, Tokyo,Japan,184-8588)
,
Murakami Hisashi
(Tokyo University of Agriculture and Technology,Department of Applied Chemistry,Koganei, Tokyo,Japan,184-8588)
,
Kumagai Yoshinao
(Tokyo University of Agriculture and Technology,Department of Applied Chemistry,Koganei, Tokyo,Japan,184-8588)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019 号： IMFEDK ページ： 67-68 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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