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文献
J-GLOBAL ID：202002212750312153
整理番号：20A0176197
ブラックマトリックス(BM)レジストのリソグラフィー特性の研究
Study of Lithograph Characteristics of Black Matrix (BM) Resist
Sekiguchi Atsushi
(Litho Tech Japan Corp.)
,
Sekiguchi Atsushi
(Ritsumeikan University)
,
Nishino Tomoki
(Litho Tech Japan Corp.)
,
Minami Hiroko
(Ritsumeikan University)
,
Matsumoto Yoko
(Ritsumeikan University)
,
Kai Yan
(ShenZhen RongDa Photosensitive Science & Technology Co., Ltd.)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)
(Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))
巻： 32 号： 4 ページ： 677-684(J-STAGE) 発行年： 2019年
JST資料番号： U2132A ISSN： 1349-6336 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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