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文献
J-GLOBAL ID：202002215374658464
整理番号：20A0078727
EUVマスクにおけるパターン依存歪と温度変化【JST・京大機械翻訳】
Pattern dependent distortion and temperature variation in EUV mask
Ban Chung-Hyun
(Hanyang Univ. (Korea, Republic of))
,
Park Eun-Sang
(Hanyang Univ. (Korea, Republic of))
,
Ha Ui-Jeong
(Hanyang Univ. (Korea, Republic of))
,
Lim Chae-Yun
(Hanyang Univ. (Korea, Republic of))
,
Oh Hye-Keun
(Hanyang Univ. (Korea, Republic of))
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 11147 ページ： 111471R-11 発行年： 2019年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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