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文献
J-GLOBAL ID：202002215574580927
整理番号：20A1884128
紫外/オゾンプラズマ処理界面を有する金属-Al2O3-GaNキャパシタ
Metal-Al2O3-GaN capacitors with an ultraviolet/ozone plasma-treated interface
Kim Kwangeun
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, WI 53706, United States of America)
,
Kim Kwangeun
(Department of Electronic and Electrical Convergence Engineering, Hongik University, Sejong 30016, Republic of Korea)
,
Kim Jisoo
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, WI 53706, United States of America)
,
Gong Jiarui
(Department of Physics, University of Wisconsin-Madison, Madison, WI 53706, United States of America)
,
Liu Dong
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, WI 53706, United States of America)
,
Ma Zhenqiang
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, WI 53706, United States of America)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59 号： 3 ページ： 030908 (5pp) 発行年： 2020年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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