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文献
J-GLOBAL ID：202002217856856040
整理番号：20A0406336
XANESとXRRを用いた低酸素分圧でのスパッタTiO_2薄膜の相成長解析【JST・京大機械翻訳】
Phase growth analysis of sputtered TiO2 thin films at low oxygen partial pressures using XANES and XRR
Singh Rajan
(Department of Physics, Birla Institute of Technology, Mesra, Ranchi-835215, India)
,
Gupta Mukul
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University Campus, Khandwa Road, Indore 45200, India)
,
Phase D M
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University Campus, Khandwa Road, Indore 45200, India)
,
Mukherjee S K
(Department of Physics, Birla Institute of Technology, Mesra, Ranchi-835215, India)
資料名：
Materials Research Express
(Materials Research Express)
巻： 6 号： 11 ページ： 116449 (12pp) 発行年： 2019年
JST資料番号： W5570A ISSN： 2053-1591 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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