文献
J-GLOBAL ID:202002218994298347
整理番号:20A0274903
イオン注入のための大面積シリコン-エネルギーフィルタ【JST・京大機械翻訳】
Large area Silicon-energy filters for ion implantation
著者 (7件):
Steinbach T.
(Institut fuer Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Stuttgart 70569, Germany)
,
Csato C.
(mi2 Factory GmbH, Jena 07745, Germany)
,
Krippendorf F.
(mi2 Factory GmbH, Jena 07745, Germany)
,
Letzkus F.
(Institut fuer Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Stuttgart 70569, Germany)
,
Rueb M.
(mi2 Factory GmbH, Jena 07745, Germany)
,
Rueb M.
(Ernst-Abbe-Hochschule Jena, Jena 07745, Germany)
,
Burghartz J.N.
(Institut fuer Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Stuttgart 70569, Germany)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
222
ページ:
Null
発行年:
2020年
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)