文献
J-GLOBAL ID:202002219154361320
整理番号:20A2768111
干渉リソグラフィーにおけるフリンジ位相安定化のための最適制御【JST・京大機械翻訳】
Optimal Control for Stabilizing Fringe Phase in Interference Lithography
著者 (5件):
Lu Sen
(Tsinghua University,Department of Mechanical Engineering,Beijing,China)
,
Yang Kaiming
(Tsinghua University,Department of Mechanical Engineering,Beijing,China)
,
Zhu Yu
(Tsinghua University,Department of Mechanical Engineering,Beijing,China)
,
Wang Leijie
(Tsinghua University,Department of Mechanical Engineering,Beijing,China)
,
Zhang Ming
(Tsinghua University,Department of Mechanical Engineering,Beijing,China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
OGC
ページ:
173-176
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)