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文献
J-GLOBAL ID：202002219922541878
整理番号：20A0763533
微細チャネルミスト化学蒸着法による単斜晶Cu_2SnS_3薄膜の作製【JST・京大機械翻訳】
Preparation of monoclinic Cu2SnS3 thin films by fine channel mist chemical vapor deposition method
Tanaka Kunihiko
(Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1, Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
,
Kowata Mao
(Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1, Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
,
Yoshihisa Fumitaka
(Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1, Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
,
Imai Shinya
(Department of Energy and Environment Science, Nagaoka University of Technology, 1603-1, Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
,
Yamazaki Wataru
(Department of Energy and Environment Science, Nagaoka University of Technology, 1603-1, Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 697 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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