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文献
J-GLOBAL ID：202002220635095820
整理番号：20A0625556
組成傾斜AlGaNナノ構造:歪分布とX線回折逆空間マッピング【JST・京大機械翻訳】
Compositionally Graded AlGaN Nanostructures: Strain Distribution and X-ray Diffraction Reciprocal Space Mapping
Stanchu H.
(Institute of Fundamental and Frontier Sciences, University of Electronic Science and Technology of China, P.R. China)
,
Stanchu H.
(Institute for Nanoscience and Engineering, University of Arkansas, United States)
,
Auf der Maur M.
(Department of Electronic Engineering, University of Rome Tor Vergata, Italy)
,
Kuchuk A. V.
(Institute for Nanoscience and Engineering, University of Arkansas, United States)
,
Mazur Yu. I.
(Institute for Nanoscience and Engineering, University of Arkansas, United States)
,
Sobanska M.
(Institute of Physics Polish Academy of Sciences, Poland)
,
Zytkiewicz Z. R.
(Institute of Physics Polish Academy of Sciences, Poland)
,
Wu S.
(Institute of Fundamental and Frontier Sciences, University of Electronic Science and Technology of China, P.R. China)
,
Wang Z.
(Institute of Fundamental and Frontier Sciences, University of Electronic Science and Technology of China, P.R. China)
,
Salamo G.
(Institute for Nanoscience and Engineering, University of Arkansas, United States)
資料名：
Crystal Growth & Design
(Crystal Growth & Design)
巻： 20 号： 3 ページ： 1543-1551 発行年： 2020年
JST資料番号： W1323A ISSN： 1528-7483 CODEN： CGDEFU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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