文献
J-GLOBAL ID:202002222205854008
整理番号:20A0124965
近赤外レーザ誘起背面湿式エッチングによる高アスペクト比チャネル作製【JST・京大機械翻訳】
High aspect ratio channel fabrication with near-infrared laser-induced backside wet etching
著者 (4件):
Kwon Kui-Kam
(Seoul National University, 1 Kwanak-ro Kwanak-gu, Seoul, 08826, South Korea)
,
Kim Haan
(Dongyang Mirae University, 445 Gyoungin-ro Guro-gu, Seoul, 08221, South Korea)
,
Kim Taekyum
(Seoul National University, 1 Kwanak-ro Kwanak-gu, Seoul, 08826, South Korea)
,
Chu Chong Nam
(Seoul National University, 1 Kwanak-ro Kwanak-gu, Seoul, 08826, South Korea)
資料名:
Journal of Materials Processing Technology
(Journal of Materials Processing Technology)
巻:
278
ページ:
Null
発行年:
2020年
JST資料番号:
H0650A
ISSN:
0924-0136
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)