文献
J-GLOBAL ID:202002222228499752
整理番号:20A1070511
熱電層状酸化コバルトの原子層堆積【JST・京大機械翻訳】
Atomic layer deposition of thermoelectric layered cobalt oxides
著者 (2件):
Hagen Dirk J.
(Department of Chemistry and Materials Science, Aalto University, 02150 Espoo, Finland)
,
Karppinen Maarit
(Department of Chemistry and Materials Science, Aalto University, 02150 Espoo, Finland)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
38
号:
3
ページ:
032412-032412-6
発行年:
2020年
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)