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文献
J-GLOBAL ID：202002222239395914
整理番号：20A0669648
バイアス変調走査イオンコンダクタンス顕微鏡を用いた自立マイクロピラーのための局所電気めっき堆積【JST・京大機械翻訳】
Local electroplating deposition for free-standing micropillars using a bias-modulated scanning ion conductance microscope
Nakazawa Kenta
(Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University, Hamamatsu, Japan)
,
Yoshioka Masayoshi
(Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University, Hamamatsu, Japan)
,
Mizutani Yusuke
(Division of Microscopic Anatomy, Graduate School of Medical and Dental Sciences, Niigata University, Niigata, Japan)
,
Ushiki Tatsuo
(Division of Microscopic Anatomy, Graduate School of Medical and Dental Sciences, Niigata University, Niigata, Japan)
,
Iwata Futoshi
(Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University, Hamamatsu, Japan)
,
Iwata Futoshi
(Graduate School of Medical Photonics, Shizuoka University, Hamamatsu, Japan)
資料名：
Microsystem Technologies
(Microsystem Technologies)
巻： 26 号： 4 ページ： 1333-1342 発行年： 2020年
JST資料番号： W2056A ISSN： 0946-7076 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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