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文献
J-GLOBAL ID：202002223577301848
整理番号：20A1692989
トリメチルアルミニウムとアンモニアを用いたAlNの原子層蒸着【JST・京大機械翻訳】
Atomic layer deposition of AlN using trimethylaluminium and ammonia
Beshkova M
(Acad. E. Djakov Institute of Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, 72 Tzarigradsko Chaussee, 1784 Sofia, Bulgaria)
,
Deminskyi P
(Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoping University, 58183 Linkoping, Sweden)
,
Pedersen H
(Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoping University, 58183 Linkoping, Sweden)
,
Yakimova R
(Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoping University, 58183 Linkoping, Sweden)
資料名：
Journal of Physics: Conference Series
(Journal of Physics: Conference Series)
巻： 1492 号： 1 ページ： 012046 (4pp) 発行年： 2020年
JST資料番号： W5565A ISSN： 1742-6588 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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