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文献
J-GLOBAL ID：202002223826230354
整理番号：20A2257688
グラフェン/SiC界面におけるAlNのナノスケール現象のルリング堆積とインターカレーション【JST・京大機械翻訳】
Nanoscale phenomena ruling deposition and intercalation of AlN at the graphene/SiC interface
Kakanakova-Georgieva Anelia
(Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoeping University, 581 83 Linkoeping, Sweden. anelia.kakanakova@liu.se)
,
Gueorguiev Gueorgui K.
,
Sangiovanni Davide G.
,
Suwannaharn Nattamon
,
Ivanov Ivan G.
,
Cora Ildiko
,
Pecz Bela
,
Nicotra Giuseppe
,
Giannazzo Filippo
資料名：
Nanoscale
(Nanoscale)
巻： 12 号： 37 ページ： 19470-19476 発行年： 2020年
JST資料番号： W2323A ISSN： 2040-3364 CODEN： NANOHL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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