文献
J-GLOBAL ID:202002223870314305
整理番号:20A2159816
温和なプラズマ処理による大面積二硫化モリブデン膜の低損傷層毎エッチング【JST・京大機械翻訳】
Low-Damaged Layer-by-Layer Etching of Large-Area Molybdenum Disulfide Films via Mild Plasma Treatment
著者 (2件):
Chee Sang-Soo
(School of Materials Science and Engineering, Gwangju Institute of Science & Technology (GIST), Gwangju, 61005, Republic of Korea)
,
Ham Moon-Ho
(School of Materials Science and Engineering, Gwangju Institute of Science & Technology (GIST), Gwangju, 61005, Republic of Korea)
資料名:
Advanced Materials Interfaces
(Advanced Materials Interfaces)
巻:
7
号:
17
ページ:
e2000762
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2484A
ISSN:
2196-7350
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)