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文献
J-GLOBAL ID：202002224245379311
整理番号：20A1026177
コロイド立方シリカシェルからの散乱 II 静的構造因子と状態の浸透状態方程式【JST・京大機械翻訳】
Scattering from colloidal cubic silica shells: Part II, static structure factors and osmotic equation of state
Dekker F.
(Van’t Hoff Laboratory for Physical and Colloid Chemistry, Debye Institute for Nanomaterials Science, Padulaan 8, 3584 CH, Utrecht University, the Netherlands)
,
Kuipers B.W.M.
(Van’t Hoff Laboratory for Physical and Colloid Chemistry, Debye Institute for Nanomaterials Science, Padulaan 8, 3584 CH, Utrecht University, the Netherlands)
,
Gonzalez Garcia A.
(Van’t Hoff Laboratory for Physical and Colloid Chemistry, Debye Institute for Nanomaterials Science, Padulaan 8, 3584 CH, Utrecht University, the Netherlands)
,
Gonzalez Garcia A.
(Laboratory of Physical Chemistry, Department of Chemical Engineering and Chemistry & Institute for Complex Molecular Systems, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB, Eindhoven, the Netherlands)
,
Tuinier R.
(Van’t Hoff Laboratory for Physical and Colloid Chemistry, Debye Institute for Nanomaterials Science, Padulaan 8, 3584 CH, Utrecht University, the Netherlands)
,
Tuinier R.
(Laboratory of Physical Chemistry, Department of Chemical Engineering and Chemistry & Institute for Complex Molecular Systems, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB, Eindhoven, the Netherlands)
,
Philipse A.P.
(Van’t Hoff Laboratory for Physical and Colloid Chemistry, Debye Institute for Nanomaterials Science, Padulaan 8, 3584 CH, Utrecht University, the Netherlands)
資料名：
Journal of Colloid and Interface Science
(Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 571 ページ： 267-274 発行年： 2020年
JST資料番号： C0279A ISSN： 0021-9797 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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