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文献
J-GLOBAL ID：202002227843245115
整理番号：20A0472326
CuIを用いたRu基板上のCuの低圧化学蒸着:ab initio計算【JST・京大機械翻訳】
Low-pressure chemical vapor deposition of Cu on Ru substrate using CuI: Abinitio calculations
Joutsuka Tatsuya
(Institute of Quantum Beam Science, Graduate School of Science and Engineering, Ibaraki University, Hitachi, 316-8511 Ibaraki, Japan)
,
Yamauchi Satoshi
(Institute of Quantum Beam Science, Graduate School of Science and Engineering, Ibaraki University, Hitachi, 316-8511 Ibaraki, Japan)
資料名：
Chemical Physics Letters
(Chemical Physics Letters)
巻： 741 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0824A ISSN： 0009-2614 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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