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文献
J-GLOBAL ID：202002230559678585
整理番号：20A2566330
RFスパッタリング法を用いて作製した硫化亜鉛薄膜の特性評価【JST・京大機械翻訳】
Characterization of Zinc Sulphide thin films prepared using RF-sputtering technique
Radhakrishnan Ranjini
(Department of Physics, K.E. College, Mannanam, Kottayam 686561, Kerala, India)
,
Mahadevan Pillai V.P.
(Department of Optoelectronics, University of Kerala, Thiruvananthapuram 695581, Kerala, India)
資料名：
Materials Today: Proceedings
(Materials Today: Proceedings)
巻： 33 号： P2 ページ： 1371-1378 発行年： 2020年
JST資料番号： W3531A ISSN： 2214-7853 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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