文献
J-GLOBAL ID:202002230666125022
整理番号:20A0528273
シリコン(111)上に成長させたCaF_2薄膜の金属バンド構造 CaSi_2の可能な形成【JST・京大機械翻訳】
Metallic band structure of CaF2 thin films grown on silicon(111): Possible formation of CaSi2
著者 (6件):
Takahashi Yuzuru
(Department of Physics, Tokyo Institute of Technology, Tokyo 152-8551, Japan)
,
Ichinokura Satoru
(Department of Physics, Tokyo Institute of Technology, Tokyo 152-8551, Japan)
,
Shimizu Ryota
(Department of Applied Chemistry, Tokyo Institute of Technology, Tokyo 152-8551, Japan)
,
Shiraki Susumu
(Department of Applied Chemistry, Nippon Institute of Technology, Saitama 345-8501, Japan)
,
Hitosugi Taro
(Department of Applied Chemistry, Tokyo Institute of Technology, Tokyo 152-8551, Japan)
,
Hirahara Toru
(Department of Physics, Tokyo Institute of Technology, Tokyo 152-8551, Japan)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
509
ページ:
Null
発行年:
2020年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)