文献
J-GLOBAL ID:202002231510836459
整理番号:20A1692344
HiPIMSにおけるターゲットと基板領域でのスパッタチタン種のイオン化分率【JST・京大機械翻訳】
Ionisation fractions of sputtered titanium species at target and substrate region in HiPIMS
著者 (5件):
Bernatova K
(Department of Physical Electronics, Masaryk University, Kotlarska 2, CZ-61137, Brno, Czech Republic)
,
Fekete M
(Department of Physical Electronics, Masaryk University, Kotlarska 2, CZ-61137, Brno, Czech Republic)
,
Klein P
(Department of Physical Electronics, Masaryk University, Kotlarska 2, CZ-61137, Brno, Czech Republic)
,
Hnilica J
(Department of Physical Electronics, Masaryk University, Kotlarska 2, CZ-61137, Brno, Czech Republic)
,
Vasina P
(Department of Physical Electronics, Masaryk University, Kotlarska 2, CZ-61137, Brno, Czech Republic)
資料名:
Plasma Sources Science and Technology
(Plasma Sources Science and Technology)
巻:
29
号:
5
ページ:
055010 (10pp)
発行年:
2020年
JST資料番号:
W0479A
ISSN:
0963-0252
CODEN:
PSTEEU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)