文献
J-GLOBAL ID:202002232114872481
整理番号:20A0495719
微量汚染物質によって誘起された無電解ニッケル金属における結晶特性を特性化するためのAFM-XRD-SIMSの組合せ適用【JST・京大機械翻訳】
Combined Application of AFM-XRD-SIMS to Characterize Crystal Properties in Electroless Nickel Metal Induced by Trace Contaminants
著者 (4件):
Wai Wan Tatt
(Unit Process, Infineon Technologies Kulim,Malaysia,09000)
,
Wei Cheat Lee
(Failure Analysis, Infineon Technologies Kulim,Malaysia,09000)
,
Sing Lim Saw
(Failure Analysis, Infineon Technologies Kulim,Malaysia,09000)
,
Nurhanani Zakaria
(Failure Analysis, Infineon Technologies Kulim,Malaysia,09000)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
IPFA
ページ:
1-4
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)