文献
J-GLOBAL ID:202002233296565540
整理番号:20A1580185
水酸化反応のためのn型シリコン(n-Si)光電極上のp型酸化ニッケル(p-NiO)における硫黄取込みの役割【JST・京大機械翻訳】
Role of Sulfur Incorporation in p-Type Nickel Oxide (p-NiO) on n-Type Silicon (n-Si) Photoelectrodes for Water Oxidation Reactions
著者 (4件):
Joe Jemee
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
,
Ho Thi Anh
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
,
Bae Changdeuck
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
,
Shin Hyunjung
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
資料名:
ACS Applied Energy Materials
(ACS Applied Energy Materials)
巻:
3
号:
5
ページ:
4255-4264
発行年:
2020年
JST資料番号:
W5032A
ISSN:
2574-0962
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)