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文献
J-GLOBAL ID:202002233296565540   整理番号:20A1580185

水酸化反応のためのn型シリコン(n-Si)光電極上のp型酸化ニッケル(p-NiO)における硫黄取込みの役割【JST・京大機械翻訳】

Role of Sulfur Incorporation in p-Type Nickel Oxide (p-NiO) on n-Type Silicon (n-Si) Photoelectrodes for Water Oxidation Reactions
著者 (4件):
Joe Jemee
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
Ho Thi Anh
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
Bae Changdeuck
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)
Shin Hyunjung
(Department of Energy Science, Sungkyunkwan University, South Korea)

資料名:
ACS Applied Energy Materials  (ACS Applied Energy Materials)

巻:号:ページ: 4255-4264  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5032A  ISSN: 2574-0962  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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