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文献
J-GLOBAL ID：202002233588372302
整理番号：20A2193395
水潤滑における固定研磨におけるSiCの除去機構の分子動力学研究【JST・京大機械翻訳】
Molecular dynamics study of the removal mechanism of SiC in a fixed abrasive polishing in water lubrication
Zhou Piao
(College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing, 210016, China)
,
Li Jun
(College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing, 210016, China)
,
Wang Zikun
(College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing, 210016, China)
,
Chen Jiapeng
(College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing, 210016, China)
,
Li Xue
(College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing, 210016, China)
,
Zhu Yongwei
(College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing, 210016, China)
資料名：
Ceramics International
(Ceramics International)
巻： 46 号： 16 PA ページ： 24961-24974 発行年： 2020年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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