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J-GLOBAL ID:202002238617088792   整理番号:20A0656539

厚い圧電性HfO_2ベース膜に向けて【JST・京大機械翻訳】

Toward Thick Piezoelectric HfO2-Based Films
著者 (10件):
Schenk Tony
(Materials Research and Technology Department, Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST), 41 Rue du Brill, L-4422, Belvaux, Luxembourg)
Godard Nicolas
(Materials Research and Technology Department, Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST), 41 Rue du Brill, L-4422, Belvaux, Luxembourg)
Mahjoub Aymen
(Materials Research and Technology Department, Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST), 41 Rue du Brill, L-4422, Belvaux, Luxembourg)
Girod Stephanie
(Materials Research and Technology Department, Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST), 41 Rue du Brill, L-4422, Belvaux, Luxembourg)
Matavz Aleksander
(Jozef Stefan International Postgraduate School, Jamova cesta 39, 1000, Ljubljana, Slovenia)
Matavz Aleksander
(Condensed Matter Physics Department, Jozef Stefan Institute, Jamova cesta 39, SI-1000, Ljubljana, Slovenia)
Bobnar Vid
(Jozef Stefan International Postgraduate School, Jamova cesta 39, 1000, Ljubljana, Slovenia)
Bobnar Vid
(Condensed Matter Physics Department, Jozef Stefan Institute, Jamova cesta 39, SI-1000, Ljubljana, Slovenia)
Defay Emmanuel
(Materials Research and Technology Department, Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST), 41 Rue du Brill, L-4422, Belvaux, Luxembourg)
Glinsek Sebastjan
(Materials Research and Technology Department, Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST), 41 Rue du Brill, L-4422, Belvaux, Luxembourg)

資料名:
Physica Status Solidi. Rapid Research Letters  (Physica Status Solidi. Rapid Research Letters)

巻: 14  号:ページ: e1900626  発行年: 2020年 
JST資料番号: W1880A  ISSN: 1862-6254  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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