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文献
J-GLOBAL ID：202002238919919214
整理番号：20A1884105
RFマグネトロンスパッタリングにより蒸着したTa薄膜における特性熱拡散による電気的ゆらぎスペクトル
Electrical fluctuation spectra due to characteristic thermal diffusion in Ta thin films deposited by RF-magnetron sputtering
Uesugi Ryota
(College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan)
,
Komine Takashi
(College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan)
,
Mizuno Masaomi
(College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan)
,
Ando Ryo
(Institute of Technology Innovation Center (ITIC) of Ibaraki prefecture, 3781-1 Nagaoka, Ibaraki-machi, Higashi-ibaraki-gun, Ibaraki, 311-3195, Japan)
,
Akabane Hideo
(College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59 号： 2 ページ： 025509 (7pp) 発行年： 2020年02月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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