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文献
J-GLOBAL ID：202002241761136435
整理番号：20A1235859
WS2-MoS2のvan der Waalsヘテロ構造における層間結合の低周波Raman研究
Low frequency Raman study of interlayer couplings in WS2-MoS2 van der Waals heterostructures
Saito Yuika
(Department of Chemistry, Gakushuin University, Mejiro, Toshima, Tokyo 171-0031, Japan)
,
Kondo Takahiro
(Department of Chemistry, Gakushuin University, Mejiro, Toshima, Tokyo 171-0031, Japan)
,
Ito Hiroki
(Department of Chemistry, Gakushuin University, Mejiro, Toshima, Tokyo 171-0031, Japan)
,
Okada Mitsuhiro
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8560, Japan)
,
Shimizu Tetsuo
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8560, Japan)
,
Kubo Toshitaka
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8560, Japan)
,
Kitaura Ryo
(Department of Chemistry, Nagoya University, Furo-cho, Nagoya, Aichi 464-8602, Japan)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59 号： 6 ページ： 062004 (6pp) 発行年： 2020年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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