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文献
J-GLOBAL ID：202002243457525437
整理番号：20A2236572
高感度CMOSイメージセンサ向けシリコンウェーハの製品設計-炭化水素分子イオン注入によるSiO2/Si界面準位の制御-
Product design of silicon wafer for advanced CMOS image sensors-Control of SiO2/Si interface states by hydrocarbon molecular ion implantation-
奥山亮輔
(SUMCO)
,
柾田亜由美
(SUMCO)
,
鈴木陽洋
(SUMCO)
,
小林弘治
(SUMCO)
,
重松理史
(SUMCO)
,
廣瀬諒
(SUMCO)
,
門野武
(SUMCO)
,
古賀祥泰
(SUMCO)
,
栗田一成
(SUMCO)
資料名：
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th ページ： ROMBUNNO.12a-A202-6 発行年： 2020年02月28日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2436-7613 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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